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在半導體產業主要應用對象的干式真空泵，會在許多抽氣工藝過程中出現一些顆粒物，一般說來，在干式真空泵中出現顆粒物有三種情況：

1、當泵內壓力增高時引起氣固變相過程的發生；

2、在泵內產生反應氣體的生成物；

3、抽氣過程混入的顆粒物。

干式機械真空泵的應用是廣泛的，主要有以下幾個方面：
1)低壓化學氣相沉積中的多晶硅制備工藝中；
2)半導體刻蝕工藝。在這些生產工藝中往往用到或生成腐蝕性氣體和研磨微粒；
3)除半導體工藝外的某些產生微粒的工藝，不希望微粒混入泵油中，而希望微粒排出泵外，則用一定型
式的干式機械真空泵可以滿足要求；
4)用做一般無油清潔真空系統的前級泵，以防止油污染；
5)在化學工業、醫藥工業、食　品工業中的蒸餾、干燥、脫泡、包裝等，要防止有機溶劑造成污染，適合用干式真空泵。
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